台积电EUV2nm工艺功臣：20亿身价专家加盟，引领半导体新纪元
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台积电资深高管罗唯仁加盟Intel，有望掌管芯片研发部门
快科技10月28日报道，台积电、Intel及三星是仅有的三家能够量产2nm级别工艺的半导体工厂。其中，台积电的工艺最为成熟，其人才也备受其他公司青睐。近日，一位资深大佬罗唯仁被曝将加盟Intel，引发业界关注。 罗唯仁今年已75岁，7月底从台积电退休，手中股票价值约20亿新台币。据悉，他加盟Intel后，有望掌管芯片研发部门。考虑到Intel与台积电在先进工艺上的竞争，罗唯仁的加入将有助于Intel的18A及14A工艺研发及建厂进度。 对于罗唯仁跳槽至Intel，台积电及Intel两家公司均保持低调，未作出回应。台积电无法像对待梁孟松那样阻止罗唯仁，因为他已经退休，且罗唯仁是美国籍，台积电不太可能采取法律行动。罗唯仁：从Intel到台积电，再回归Intel
罗唯仁早年曾是Intel的员工，1996年成为Intel关键工艺研发核心人员，担任先进技术发展协理暨制程技术先进技术制造厂（CTM）厂长，管理美国圣塔克拉拉CPU工厂营运，积累了丰富的制造实务经验。 2004年，罗唯仁加入台积电，直至今年7月份退休，任职长达21年。在这21年中，罗唯仁带领团队获得全球超过1500项专利，其中约1000项为美国专利。 罗唯仁在关键技术上的重要功绩是28nm节点开发出High K金属栅极技术，并率先实现量产，使台积电从这一节点开始领先对手。他在2011年获得台积电创始人、时任执行长张忠谋亲自颁发的台积公司内部最高荣誉—TSMC Medal of Honor。今年，他还成为工研院院士。 罗唯仁还推动台积电成立7x24研发中心及One-Team协作模式，加快研发及量产，是台积电在EUV及5nm工艺领域取得突破的关键人物。